杭州立昂微電子股份有限公司
發佈日期：2017-11-09 流覽次數：190
項目名稱：杭州立昂微電子股份有限公司FAB-C1機電工程
杭州立昂東芯微電子有限公司FAB-D工程/杭州立昂東芯微電子有限公司含砷廢水工程
工作地點：杭州下沙經濟開發區20號大街199號
建設單位：杭州立昂微電子股份有限公司
建築面積：15840㎡
簡介：杭州立昂微電子股份有限公司位於杭州工業區內，之前主要生產功率器件。16年新增6英寸砷化鎵微波射頻電路晶片生產線。
項目介紹：15年負責MOS生產線的無塵室，面積約為3000㎡
16年負責砷化鎵微波射頻電路晶片生產線的無塵室，面積約為3000㎡
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